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Rexxam RHDIW150A 超純水加熱單元:技術特點、規格參數及應用領域全解析

更新時間:2026-01-06      瀏覽次數:53

在半導體制造、液晶面板生產等精密工業領域,對清洗工序中使用的超純水(Ultrapure Water)溫度控制有著極的高的要求。Rexxam 公司推出的 RHDIW150A 超純水加熱單元,憑借其獨特的加熱技術和高潔凈設計,成為滿足這些嚴苛環境需求的專業解決方案。

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一、 核心技術特點:高效與穩定并重

該設備的核心在于采用了高效率石墨加熱管作為熱源。與傳統的鹵素加熱管相比,石墨加熱管在熱效率上具有顯著優勢,能夠有效降低能耗,實現更經濟的運行成本。

除了節能特性外,該加熱單元還具備極的高的穩定性。其電阻值在長期使用中保持穩定,這直接延長了加熱器的使用壽命,減少了設備維護和更換的頻率。

為了確保液體的純凈度,設備還提供了高精度過濾器作為選配功能。這一設計能夠有效過濾液體中的微細粒子,防止雜質污染,滿足高潔凈度制程的要求。

二、 關鍵規格參數

RHDIW150A 型號在設計上兼顧了大流量與高精度溫控。以下是該設備的主要技術參數:

  • 液體種類:專為超純水設計。

  • 溫度控制:設定范圍覆蓋 25℃~85℃,溫控精度極的高,可控制在設定溫度 ±1℃ 以內。

  • 流量與壓力:標準藥液流量為 38L/min,壓力損失控制在 0.027MPa以下,確保流體輸送的穩定性。

  • 加熱能力:配備 147kw 的石墨加熱管,提供強勁的加熱動力。

  • 材質與構造:與純水接觸的部位均采用 石英氟樹脂,這兩種材質具有優異的耐腐蝕性和低析出特性,保證了水質的純凈。

  • 外形尺寸與電源:設備尺寸為 1010(W)×1260(D)×2120(H) mm,重量為 520kg。電源支持三相 AC220V~480V ±10%。

三、 典型應用領域

憑借其精密的溫控能力和高潔凈特性,Rexxam RHDIW150A 超純水加熱單元主要應用于以下高的端制造工序:

  1. 半導體清洗工序:在芯片制造過程中,對晶圓進行高潔凈度的清洗。

  2. 液晶清洗工序:用于液晶面板生產中的清洗環節。

  3. 藥液稀釋加熱:適用于需要精確溫度控制的藥液處理過程。

四、 總結

Rexxam RHDIW150A 超純水加熱單元通過采用石墨加熱技術,在提升熱效率和延長設備壽命方面表現出色。其 ±1℃ 的溫控精度和選配的高精度過濾系統,使其成為半導體、液晶等尖的端產業中不可的或缺的溫控設備,能夠有效保障生產工藝的穩定性和產品的良率。


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